Filter UV K&F Concept Nano X MRC, 52mm, për Fujifilm X100 X100V X100F, i zi

Filtri K&F Concept UV Nano-X MRC me diametër 52 mm është projektuar posaçërisht për kamerat Fujifilm X100, X100S, X100F, X100V dhe X100VI, duke ofruar mbrojtje të sigurt për lentën dhe përmirësim të lehtë të imazhit. Veshja multi-layer MRC ndihmon në reduktimin e reflektimeve dhe halos, duke ruajtur kontrastin dhe ngjyrat natyrale në fotografi. Ky filtër UV është i dobishëm për mbrojtjen e përhershme të lentes nga pluhuri, gërvishtjet dhe gjurmët e gishtave, pa ndikuar në cilësinë optike. Me ndërtim cilësor dhe dizajn të hollë, ai përshtatet mirë me trupin kompakt të serisë X100 pa shtuar peshë apo volum të panevojshëm. Vjen i paketuar në ambalazh origjinal nga prodhuesi, gati për përdorim direkt në pajisjen tuaj.